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來源: | 發布日期:2021-09-07

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首先是貨品的清潔度,它直接影響膜層的附著力,因此入爐前要采用清潔工藝進行清潔,在沉積薄膜之前,利用輝光放電氣體離子可對貨品進行轟擊實現濺射清潔;其二是靶材表麵的清潔度及靶材的純度,靶材表麵是否清潔也會直接影響膜層的附著力,空打時靶電流不宜過大,以免靶材升溫太高,在冷卻效果不是很好的情況下被氧化,空打完畢後須冷卻一段時間方能開門入爐;其三是基體偏壓,對工件施加偏壓不僅能增加入射原子的能量,還能使生長中的薄膜不斷受到Ai+的轟擊,清除可能進入薄膜表麵的氣體,提高膜的純度,並且可以清除附著力較差的沉積粒子,淨化表麵,從麵提高了膜層的附著力,但若偏壓過高則有可能導致沉積速率的減緩及對光的折射度的降低。其四是爐內真空度的高低,真空度越高,環境越清潔,膜的純度和質量就越好。

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